ASML و IMEC همکاری پنج ساله را راه اندازی کرده اند و به محققان این امکان را می دهند تا به جدیدترین ابزارهای ASML دسترسی پیدا کنند. این همکاری به توسعه فن آوری های پردازش زیر 5 نانومتر می پردازد و شامل تجهیزات لیتوگرافی پیشرفته و اندازه گیری و تأیید NA بالا می باشد.
IMEC به تجهیزات پیشرفته ASML ، از جمله Twinscan NXT (DUV) و Twinscan NXE (EUV با مخلوط 4.1) و EUV Twinscan (EUV با سرعت بالا با دیافراگم 4.1) دسترسی خواهد داشت. این تسهیلات همچنین ابزارهای نوری را برای اندازه گیری Adindstar نصب می کند.
به گفته TomShardware ، تجهیزات AMSL در مرکز IMEK -Research در بلژیک و پروژه نانولوژی اتحادیه اروپا برای کمک به توسعه نسل بعدی فن آوری های پردازش اجرا می شود. در لیتوگرافی زیر 5 نانومتر ، ابزارها باید وضوح 2 نانومتر با تابش نور ایجاد کنند که تنها با NA EUV بالا امکان پذیر است.
محققان IMEC و ASML پیش از این در EUV NA بالا در مراکز تحقیقاتی ASML در هلند کار کرده اند. اما اکنون فناوری ذکر شده به طور مستقیم در مراکز تحقیقاتی IMEC در بلژیک در دسترس خواهد بود. این امر باعث تسریع در تحقیق و توسعه فن آوری های جدید خواهد شد.
دسترسی به IMEC به فناوری EUV High-NA بخشی از پروژه بعدی G-7A (IPCE22201) است که توسط حمایت مالی دولت هلند و در پروژه های مشترک اروپا (IPCEI) ارائه شده است. این مشارکت پایه و اساس توسعه مقاوم تر و پیشرفته در صنعت نیمه هادی را فراهم می کند.
ASML و IMEC علاوه بر لیتوگرافی زیر 5 نانومتر ، در مناطقی مانند فناوری درام و سیلیکون برای فوتونیک و بسته بندی های پیشرفته کار خواهند کرد. این مشارکت یک گام بسیار مهم در توسعه تراشه های فوق العاده تحت الشعاع و پاسخ به نیازهای فن آوری های آینده است.
